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科技進(jìn)展
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  作為兩種面缺陷間的幾何交線,表面-晶界截交線(surface triple junction或STJ)是多晶體材料表面上的常見線缺陷。在塊體材料中,位于STJ的原子體積分量極低,其對(duì)材料整體強(qiáng)度的貢獻(xiàn)幾乎可以忽略。隨著材料尺寸降低至亞微米甚至納米尺度(如薄膜、納米線等),STJ原子體積分量急劇上升。但這一特殊線缺陷是否以及如何影響材料力學(xué)性能尚無定論。如何將STJ對(duì)材料強(qiáng)度的貢獻(xiàn)從表面及晶界效應(yīng)中分離出來也是一個(gè)巨大挑戰(zhàn)。

  最近,金屬所沈陽材料科學(xué)國家研究中心金海軍研究員團(tuán)隊(duì)在這一問題上取得進(jìn)展。該團(tuán)隊(duì)在電化學(xué)環(huán)境下進(jìn)行原位壓縮實(shí)驗(yàn),比較納米晶和粗晶納米多孔金屬的力學(xué)行為,成功分離出納米金屬強(qiáng)度的STJ效應(yīng),并確定其開始發(fā)揮作用的臨界尺寸。相關(guān)成果以“Surface triple junction governs the strength of a nanoscale solid”為題發(fā)表于《物理評(píng)論快報(bào)》(Physical Review Letters)。

  該研究采用兩種特征樣品:一種是含有大量表面、晶界和STJ的納米晶納米多孔金樣品;另一種是含有大量表面,但晶界與STJ極少的粗晶納米多孔金樣品。由于晶界對(duì)電化學(xué)修飾不敏感,通過電化學(xué)控制表面狀態(tài)并觀察其對(duì)強(qiáng)度的影響,即可在納米晶納米多孔金中測(cè)得“STJ效應(yīng)+表面效應(yīng)”,即STJ與表面對(duì)強(qiáng)度的共同作用;作為參照實(shí)驗(yàn),在粗晶納米多孔金中則可測(cè)得“表面效應(yīng)”。比較“STJ效應(yīng)+表面效應(yīng)”與“表面效應(yīng)”,發(fā)現(xiàn)兩者在百納米以上基本重合,而在百納米以下顯著分離(見圖2)。這說明在約100納米以下,STJ開始對(duì)材料強(qiáng)度發(fā)揮作用。透射電鏡等實(shí)驗(yàn)表明,STJ有可能作為位錯(cuò)的優(yōu)先形核位置影響納米材料變形行為與力學(xué)性能。本研究表明STJ以及更廣義上的三叉晶界線并非簡(jiǎn)單的面缺陷間幾何交線,而是影響材料性能的重要結(jié)構(gòu)參量。該研究為理解納米金屬力學(xué)行為,實(shí)現(xiàn)力學(xué)性能的控制與優(yōu)化提供重要信息。

  該工作由張燁元博士研究生(第一作者)、解輝特別研究助理、劉凌志副研究員和金海軍研究員(通訊作者)共同完成。該研究得到國家自然科學(xué)基金和國家重點(diǎn)研發(fā)計(jì)劃的資助。

  圖1:納米晶納米多孔金的a)TEM圖像和選區(qū)電子衍射( SAED )圖案,b)PED取向圖及c)結(jié)構(gòu)示意圖。粗晶納米多孔金d)TEM圖像和SAED圖案,e)EBSD取向圖及f)結(jié)構(gòu)示意圖。Surf:固體表面。GB:晶界。STJ:表面-晶界截交線。

  圖2:a)電化學(xué)控制原位壓縮實(shí)驗(yàn)裝置示意圖,b)典型的納米晶納米多孔金隨表面狀態(tài)改變的原位壓縮曲線,c)納米晶和粗晶納米多孔金氧吸附產(chǎn)生的流變應(yīng)力變化幅度隨孔棱尺寸的變化規(guī)律。

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